
嘉柏微电子公司总部位于美国伊利诺伊州,是对半导体工业的全球化学机械抛光浆料(CMP)的领先供应商和第二大的CMP垫供应商,其产品用于在制造半导体器件中从沉积在硅晶片上的多层除去多余的材料。嘉柏微电子公司拥有以上中国发明专利,旨在保护一种化学机械抛光系统及其使用方法。
本案争议的焦点问题在于:一、基于从属权利要求中的一部分特征对独立权利要求的修改是否符合审查指南的相关规定;二、判断创造性时,是否应当从发明构思的角度对区别特征在技术方案中所起的作用进行分析。
在专利无效案件审理过程中,柳沈律师事务所代表嘉柏微电子公司成功地争辩了:(1)从属权利要求中的一部分技术特征是一个独立的技术特征,而非技术特征的一部分,用此特征对独立权利要求的进一步限定符合审查指南的相关规定;(2)本专利与现有技术的发明构思完全不同,某些看似相同的组分在二者的技术方案中发挥的作用完全不同,现有技术中也不存在技术启示,从而本专利具有创造性。复审委员最终接受了我们的争辩,维持所有修改的权利要求有效。
本案中,北京市柳沈律师事务所的宋莉律师、金拟粲、詹承斌和张晓飞担任专利权人嘉柏微电子公司的代理人。